장비 상세정보
| 확산로 (Solar & Semiconductor Furnace) | |||||||||||||
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| 장비설명 | 화합물 반도체 전자소자/광소자/나노소자의 디바이스 제조 공정 | ||||||||||||
| 구성 및 성능 | 1) Tube Unit • Heater 사양 - Kanthal A-1 Wire Molding Type - 열선 : Kanthal A-1 Wire - Power : 380V 3P 30KW • Insulation - High Temp Alumina Board - High Temp Ceramic Fiber • Temp Sensor - R-Type Thermocouple - 소선 : Ø1.2 - 절연관 : High Alumina Tube - 보상도선 : R-Type 규격 • Tube Mask : SUS304 Water Cooling - GAS IN, OUT Line - Water Line구동 방식 • Tube Door 자동개폐 장치 • Tube Size : ID Φ300 × OD Φ308 × 1300 L 2) Tray Feeding Unit • Tray Material : Quartz • Wafer Loading Q'ty : 30sheet • Tray Up & Down Unit : Linear Module+Servo Motor 3) Gas Delivery Unit • MFC 사용 : O2(1L/min), N2(10L/min), C-N2(1L/min) • Dopant : POCl3 용액 • 항온조 사용 : 15 ~ 30±0.1℃ 자동 조절 • 배기량 자동조절 - Manual Teflon Valve 사용 - Manometer 사용 - POCl3 용액 Filter Tank 사용 4) Frame Enclosure System 지지용 하부 Frame 및 안전용 Enclosure 5) 제어방식 : PID PLC 제어/3 Zone • Program PID Control/3 Zone • UP-550 Controller(YOKOGAWA) • P/C Controll(Pentium4이상), GUI환경 • Data취합 및 Trend기능 • 과열차단장치 |
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| 사용예 | - Low Temperature Oxide증착 - Low Stress Nitride 증착 등 |
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